高纯铜靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。

信息存储产业：随着信息及计算机技术的不断发展，国际市场对记录介质的需求量越来越大，与之相应的记录介质用靶材商场也不断扩大，其相关产品有硬盘、磁头、光盘(CD-ROM，CD-R，DVD-R等)、磁光相变光盘(MO，CD-RW，DVD-RAM)。

集成电路产业：在半导体应用领域，靶材是国际靶材市场的主要组成之一，主要用于电极互连线膜、阻挡层薄膜、接触薄膜、光盘掩膜、电容器电极膜、电阻薄膜等方面。

平面显现器产业：平面显示器包括液晶显示器(LCD)、等离子体显示器(PDP)等等。现在，在平面显示器市场中以液晶显示器(LCD)为主，其市场占有率超过85%，被认为是现在最有应用前景的平面显示器件，广泛应用于笔记本电脑显示器、台式电脑监视器和高清晰电视机。LCD的制造工艺较复杂，其中降低反射层、透明电极、发射极与阴极均由溅射方法形成，因此，在LCD产业中溅射靶材起着重要作用。

高纯度铜靶材在以上领域都有广泛应用，并且对所需溅射靶材的质量提出了越来越高的要求。

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