我公司采用独有的工艺成功研制出全球唯一的镍磷系列靶材，制备出Ni₉₂P₈、Ni₈₅P₁₅、Ni₈₀P₂₀系列靶材。解决了制备PVD技术所需镍磷靶材的技术难点。

镍磷系膜是广泛应用于印刷电路板、手机和智能手表芯片、IGBT功率电子器件以及常规钢铁、锌合金、铝合金、铜合金、陶瓷、玻璃、塑料甚至金刚石工作表面的常用镀层，具有光泽度高、硬度高、耐磨性优异、耐腐蚀性强、优异的电磁屏蔽特性、优异的钎焊和界面过度性能。

当前镍磷薄膜都是采用化学镀方法镀在工件或芯片表面，不仅存在严重的环保问题，而且在芯片镀膜时其化学镀层（含有结晶水）在后续PVD镀钛和铜镀层时往往造成镀层脱落，严重影响芯片制造的成品率并提高了生产成本。

与化学镀和电镀相比，PVD技术沉积的膜层具有致密性更高、膜层厚度更均匀的特性，特别是，PVD在芯片表面镀镍磷屏蔽膜可以与后续的PVD镀铜膜、钛膜在一道PVD工序中完成，不仅解决了对周边环境的污染问题、不对外排放废水和废气，而且产品质量大幅度提高、成本显著降低，消除了芯片制造过程中的一道繁杂工序。

本产品将在IGBT器件、5G手机、智能手表、智能芯片等多个领域获得广泛应用。